Naučí vás zjistit důvod, proč výrobky potažené vakuovým povlakovacím zařízením padají z fólie

Vakuové povlakovací zařízení se týká hlavně typu povlaku, který je třeba provádět ve vysokém vakuu, a existuje mnoho typů, včetně vakuového odpařování iontů, magnetronového rozprašování, epitaxe molekulárního paprsku MBE, laserové naprašování PLD a mnoho dalších. Bude také mnoho problémů při používání vakuového povlakovacího zařízení, jako je filmový peeling pokovených výrobků. Dále představíme důvody poklesu filmu výrobků pokovených vakuovým povlakovacím zařízením.

1. Čistota povrchu výrobku nestačí a doba zesílení argonu pro čištění iontového zdroje je příliš dlouhá.

2. Ať už je čisticí prostředek přidán během čištění nebo je čisticí prostředek vyměněn, doporučuje se nejprve použít čistou vodu.

3. Ať už se parametry procesu změní, lze provést některé úpravy v tloušťce a proudu filmu.